반응형

분류 전체보기 22

TSV(Through-Silicon Via)란?

TSV(Through-Silicon Via)란?TSV(Through-Silicon Via)는 반도체 패키징 기술 중 하나로, 실리콘 웨이퍼를 수직으로 관통하는 미세한 전도성 구멍(비아, Via)을 형성하여 칩 간의 전기적 연결을 가능하게 하는 기술입니다. 이는 기존 와이어 본딩(Wire Bonding)이나 플립칩(Flip Chip) 방식보다 신호 전송 거리를 줄이고, 데이터 전송 속도를 높이며, 전력 소모를 줄일 수 있는 첨단 기술입니다.TSV의 주요 특징1. 고속 데이터 전송기존 패키징 방식(와이어 본딩, 플립칩)보다 신호 전송 거리가 짧아져 데이터 전송 속도가 획기적으로 향상됩니다.특히, HBM(High Bandwidth Memory)과 같은 고대역폭 메모리 기술에서 필수적으로 사용됩니다.2. 낮은 ..

반도체 동향 2025.01.20

Bruker 회사 소개 및 Nano Indenter 활용 분야

Bruker 회사 소개 및 Nano Indenter 활용 분야안녕하세요, 오늘은 소재 및 나노기술 연구에서 중요한 역할을 하는 Bruker 회사와 그들의 대표적인 제품 중 하나인 Nano Indenter에 대해 소개해 드리려고 합니다. 연구 및 산업 현장에서 필수적인 정밀 측정 장비를 제공하는 Bruker의 기술력을 살펴보고, Nano Indenter가 어떤 분야에서 활용되는지 알아보겠습니다.Bruker 회사 소개Bruker Corporation은 독일에 본사를 둔 글로벌 과학 기기 제조업체로, 1960년에 설립된 이후 다양한 연구 및 산업 분야에서 사용되는 최첨단 분석 및 측정 장비를 개발해 왔습니다.Bruker는 주로 다음과 같은 분야에서 높은 기술력을 보유하고 있습니다.재료과학(Material Sc..

Bruker 2025.01.19

Verity

Verity Instruments의 분광기는 주로 반도체 제조 공정에서 실시간 모니터링과 제어를 위해 사용됩니다. 아래에 주요 사용 방안과 함께 설명드리겠습니다. 1. 에칭 공정의 엔드포인트 감지에칭 공정 중 특정 층이 제거되면, 분광기를 통해 방출되는 광학 신호의 변화를 감지하여 공정 종료 시점을 정확하게 판단할 수 있습니다. 이는 공정의 정확성과 재현성을 높이는 데 필수적입니다.2. 박막 두께 측정박막 증착 공정에서 분광기를 사용하여 필름의 두께를 실시간으로 측정할 수 있습니다. 이를 통해 원하는 두께에 도달했을 때 공정을 종료하거나 조정할 수 있어 품질 관리에 유용합니다.  3. 플라즈마 진단플라즈마 공정 중 분광기를 활용하여 플라즈마의 특성(예: 이온 밀도, 전자 온도 등)을 분석할 수 있습니다...

반도체 동향 2025.01.19

Epitaxial wafer

에피택셜 웨이퍼(Epitaxial Wafer)는 단결정 실리콘 기판 위에 단결정 실리콘 층을 추가로 증착한 웨이퍼를 말합니다. 이러한 에피택셜 층은 기판과 동일한 결정 구조를 가지며, 고성능 반도체 소자의 제작에 필수적입니다. 에피택시(Epitaxy) 공정은 기판 위에 얇은 단결정 박막을 성장시키는 기술로, 온도, 압력, 가스 유량 등의 매개변수를 엄격하게 제어하여 고품질의 결정 구조를 형성합니다.  SemiCorex에피택셜 웨이퍼 제조 기업:Coherent: 최첨단 MOCVD 플랫폼을 사용하여 고품질의 III-V 에피택셜 웨이퍼를 생산하며, 레이저, 검출기 등 다양한 광전자 소자에 활용됩니다. Coherent IncSK실트론: 폴리시드 웨이퍼 위에 수 마이크로미터 두께로 실리콘 단결정층을 증착한 에피택..

반도체 동향 2025.01.18

HBM Chip maker

고대역폭 메모리(HBM)는 인공지능(AI)과 고성능 컴퓨팅 분야에서 필수적인 메모리 솔루션으로 자리매김하고 있습니다. HBM을 생산하는 주요 기업으로는 SK하이닉스, 삼성전자, 마이크론 테크놀로지가 있습니다. 각 기업의 HBM 관련 제품과 동향을 소개합니다.SK하이닉스SK하이닉스는 HBM 시장의 선도 기업으로, 세계 최초로 12단 적층 HBM3E를 양산하며 기술력을 입증했습니다. 이 제품은 이전 세대 대비 데이터 전송 속도와 용량이 크게 향상되어 AI 및 고성능 컴퓨팅 분야에서 높은 평가를 받고 있습니다. IT세상을 바꾸는 힘 지디넷코리아삼성전자삼성전자는 HBM-PIM(Processing-In-Memory) 기술을 세계 최초로 개발하여 메모리와 프로세싱 기능을 결합한 혁신적인 제품을 선보였습니다. 이 기..

반도체 동향 2025.01.18

DRAM / NAND FLASH 동향

최근 DRAM과 NAND 플래시 메모리 시장은 인공지능(AI) 기술의 발전과 데이터 센터 확장 등으로 인해 지속적인 성장을 보이고 있습니다.DRAM 시장 동향:시장 규모 및 성장률: 전 세계 DRAM 시장 규모는 2023년 1,105억 7천만 달러에서 2024년 1,158억 9천만 달러로 성장할 것으로 예상되며, 2032년에는 1,939억 7천만 달러에 이를 것으로 전망됩니다. 이는 2024년부터 2032년까지 연평균 성장률(CAGR) 6.7%를 나타냅니다. Fortune Business Insights기업별 동향: 2024년 3분기 기준, 삼성전자는 DRAM 시장 점유율 41.1%로 선두를 유지하고 있으며, SK하이닉스는 34.4%로 2위를 차지하고 있습니다. 또한, SK하이닉스는 전력 효율을 9% 이..

반도체 동향 2025.01.18

반도체 HBM 동향

최근 고대역폭 메모리(HBM)는 인공지능(AI) 기술의 발전과 함께 반도체 산업에서 주목받고 있습니다. HBM은 여러 개의 D램 칩을 수직으로 적층하여 높은 데이터 전송 속도와 용량을 제공하는 메모리 기술로, AI 모델의 대규모 데이터 처리에 필수적입니다. 동아사이언스시장 동향:수요 증가: AI와 머신러닝의 발전으로 대규모 데이터 처리가 필요해지면서 HBM의 수요가 급증하고 있습니다. 특히, 엔비디아의 AI 가속기 등 고성능 컴퓨팅 장비에 HBM이 필수적으로 사용되고 있습니다. 서울경제기업별 동향:SK하이닉스: HBM3E의 12단 제품을 세계 최초로 양산하며 엔비디아에 공급하고 있습니다. 이는 이전 8단 제품 대비 50% 향상된 용량을 제공합니다.로이터삼성전자: HBM3E 8단 제품이 엔비디아의 품질 테..

반도체 동향 2025.01.18

Acoustically Monitoring And Controlling An Ultrasonic Or Megasonic Cleaning System

Onda Corporation (USA)​Acoustically Monitoring And Controlling An Ultrasonic Or Megasonic Cleaning System​APPLICATION-Characterize ultrasonic and megasonic cleaning tanks, sonoprocessing systems, and other devices that rely on acoustic cavitation.-Determine the primary cleaning mechanism by comparing the level of direct field pressure, stable cavitation pressure, and transient cavitation pressur..

Onda Corporation 2025.01.16
반응형